1. SUST Repository
  2. Theses and Dissertations
  3. College of Science
  4. Masters Dissertations : Science
Please use this identifier to cite or link to this item: https://repository.sustech.edu/handle/123456789/18459
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorيوسف, محمد يوسف الشيخ
dc.date.accessioned2017-08-01T10:14:12Z
dc.date.available2017-08-01T10:14:12Z
dc.date.issued2017-04-01
dc.identifier.citationيوسف, محمد يوسف الشيخ.دراسة اللوحات الفنية باستخدام تقنية اطياف البلازما المستحثة بالليزر/محمد يوسف الشيخ يوسف؛أمل عبدالله أحمد.-الخرطوم:جامعة السودان للعلوم والتكنولوجيا،كلية العلوم،2017.-63ص:ايض؛28سم.-ماجستير.en_US
dc.identifier.urihttp://repository.sustech.edu/handle/123456789/18459
dc.descriptionرسالة ماجستيرen_US
dc.description.abstractتركيزالالكترونات ودرجة حرارة البلازما المتولدة بالليزر أعلي بكثير من تركيز الالكترونات ودرجة حرارة البلازما المتولدة بالانفراغ الكهربي لذا يعد الليزر مصدرا منفصلا لدراسة أطياف ،ان دراسة اللوحات الفنية باستخدام اطياف البلازمة المستحثة بالليزر افضل بكثير من الطرق الكيميائية و الميكانيكية لان المنظفات الكيميائية قد تستمر حتى سنتين بعد إستخدامها مما يجعل التنبؤ بالنتيجة النهائية صعبة للغاية لكن الصعوبة تكمن فى إختيار الليزر المناسب لكل مهمة، لكن في التحليل الطيفي باستخدام مطياف الليزر يسلط ضوء الليزر على العينة ويحصل على ضوء يمكن ان يحلل بواسطة المطياف الضوئي.en_US
dc.description.sponsorshipجامعة السودان للعلوم والتكنولوجياen_US
dc.language.isootheren_US
dc.publisherجامعة السودان للعلوم والتكنولوجياen_US
dc.subjectاللوحات الفنيةen_US
dc.subjectتقنية اطياف البلازماen_US
dc.subjectالبلازما المستحثة بالليزرen_US
dc.titleدراسة اللوحات الفنية باستخدام تقنية اطياف البلازما المستحثة بالليزرen_US
dc.title.alternativeStudying Art boards Using Laser-Induced Plasma Spectrometryen_US
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.Supervisorمشرف،- أمل عبد الله أحمد
Appears in Collections:Masters Dissertations : Science

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
دراسة اللوحات الفنية......pdfبحث1.4 MBAdobe PDFView/Open
Show simple item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.